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金太客 CMP研磨鑽石液(Slurry)
金太客技術部門研發 鑽石研磨拋光液
高精度CMP製程專用

使用正確的研磨液→減少研磨時間!!節約劑量
經濟規模給貴司帶來經濟效益
客製化符合製程需求
整合物流系統
提供粒徑分布報告 免費送樣測試

對光澤度要求極高之研磨拋光應用:水性鑽石液
加速對切磨效能的要求:油性鑽石液

其沉澱度/表面粗糙度/切削功率之要求
全可客製化要求配製!

應用範圍:對表面光潔度要求高的物料及元件
包括光電産品、陶瓷、金屬物料及半導體基盤（substrates)

晶元wafer製程中 拋光 研磨 減少刮傷的優質選擇
需要請MAIL詢問及來電洽詢

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規格型號:
計價單位: btl
參考報價: 850.00 新臺幣
企業名稱: 金太客科技股份有限公司 [台灣] 查看/發表評論
聯 系 人: 侯珈歆    查看聯繫方式 | 給我留言
最後更新: 2011-01-27 12:45:56
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